Zum 13. Mal vergibt die Hessische Kulturstiftung im Rahmen der Künstlerförderung Stipendien für Reisevorhaben und Atelieraufenthalte in London, New York City und Paris für die Jahre 2017 und 2018. Für den ausgeschriebenen Turnus gelten folgende Veränderungen: Die Atelieraufenthalte für New York und Paris werden für neun Monate vergeben und die bisher einjährigen Atelierstipendien Istanbul werden als Reisestipendien mit individueller Wahl der Aufenthaltsdauer ausgeschrieben.

Als eine der höchstdotierten Fördermöglichkeiten für Künstler/innen in Deutschland haben an dem Stipendienprogramm bereits international renommierte Künstler, wie etwa Simon Dybbroe Møller, Anne Imhof, Maria Loboda, Tobias Rehberger, Tomás Saraceno und Haegue Yang, teilgenommen.

Das Stipendienprogramm richtet sich an freischaffende Künstler/innen aller bildnerischen Medien. Die Bewerber/innen müssen zum Zeitpunkt der Bewerbung ihre künstlerische Ausbildung abgeschlossen haben und entweder in Hessen geboren sein oder seit dem 01.01.2014 in Hessen leben oder ein Studium an einer Kunstakademie bzw. in vergleichbaren Studiengängen in Hessen absolviert haben.

Die Auswahl der Bewerber/innen wird von fünf Juror/innen aus Hessen und dem Bundesgebiet vorgenommen, die in Kunstvereinen, Museen, an Hochschulen, als freie Kuratoren oder freie Künstler tätig sind. Weitere Informationen entnehmen Sie bitte der Website der Hessischen Kulturstiftung unter dem Stichwort Stipendien. Die Bewerbungsunterlagen können angefordert werden über:

die Website
telefonisch: 0611 585 343 40
per E-Mail: buelig@hkst.de oder postalisch: Hessische Kulturstiftung z.Hd. Friederike Bülig Luisenstraße 3 (Hinterhaus) 65185 Wiesbaden. Bewerbungsschluss: 19. September 2016. Es gilt das Datum des Poststempels.