Zum 13. Mal vergibt die Hessische Kulturstiftung im Rahmen der
Künstlerförderung Stipendien für Reisevorhaben und Atelieraufenthalte in
London, New York City und Paris für die Jahre 2017 und 2018. Für den
ausgeschriebenen Turnus gelten folgende Veränderungen: Die
Atelieraufenthalte für New York und Paris werden für neun Monate
vergeben und die bisher einjährigen Atelierstipendien Istanbul werden
als Reisestipendien mit individueller Wahl der Aufenthaltsdauer
ausgeschrieben.
Als eine der höchstdotierten
Fördermöglichkeiten für Künstler/innen in Deutschland haben an dem
Stipendienprogramm bereits international renommierte Künstler, wie etwa
Simon Dybbroe Møller, Anne Imhof, Maria Loboda, Tobias Rehberger, Tomás
Saraceno und Haegue Yang, teilgenommen.
Das
Stipendienprogramm richtet sich an freischaffende Künstler/innen aller
bildnerischen Medien. Die Bewerber/innen müssen zum Zeitpunkt der
Bewerbung ihre künstlerische Ausbildung abgeschlossen haben und entweder
in Hessen geboren sein oder seit dem 01.01.2014 in Hessen leben oder
ein Studium an einer Kunstakademie bzw. in vergleichbaren Studiengängen
in Hessen absolviert haben.
Die Auswahl der Bewerber/innen
wird von fünf Juror/innen aus Hessen und dem Bundesgebiet vorgenommen,
die in Kunstvereinen, Museen, an Hochschulen, als freie Kuratoren oder
freie Künstler tätig sind. Weitere Informationen entnehmen Sie bitte der
Website der Hessischen Kulturstiftung unter dem Stichwort Stipendien.
Die Bewerbungsunterlagen können angefordert werden über:
die Website
telefonisch: 0611 585 343 40
per E-Mail: buelig@hkst.de oder postalisch: Hessische Kulturstiftung z.Hd. Friederike Bülig Luisenstraße 3 (Hinterhaus) 65185 Wiesbaden. Bewerbungsschluss: 19. September 2016. Es gilt das Datum des Poststempels.